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中山市思考電子科技有限公司，于2016-6-16日落戶廣東省中山市三角鎮愛國 工業區二路7號。2007年開始專注從事半導體晶圓劃片刀、微孔陶瓷真空吸盤、ESC靜電卡盤，氮化鋁加熱器ALN Heater，CVD/PVD靜電卡盤，固晶機吸嘴（電木吸嘴、橡膠吸嘴、鎢鋼吸嘴）等半導體耗材經驗。
TANISS是思考電子注冊的專利商標品牌，產品涉及光電通訊、半導體、醫藥機 械、航空航天等高端精密制品。TANISS憑借強大技術實力，豐富的專業經驗、誠信 的服務及質量優良的産品，在眾多行業領域中成爲備受推崇的供應商和值得信賴的 合作伙伴。
公司于2016年順利獲得ISO9001:2015質量認證體系，同時在深圳、江蘇、天津、美國都有辦事處。我們將以更高端的技術及更完善的管理向更多行業拓展。 我們秉承:“守時、誠信、質量上乘、客戶至上”的服務宗旨，以充滿自信的工作 態度，精益求精的生産理念，從每個細節與客戶和諧發展。
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發展歷程
產品展示
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中山市思考電子科技有限公司，成立于2016-6-16日，由深圳總公司擴遷至中山，廠房面積約9000平方米。專業從事晶圓切割刀片（輪轂型切割片刀和無輪轂型切割片刀），ESC靜電卡盤，陶瓷真空吸盤，磨刀板，封裝吸嘴等半導體耗材及精密機械零部件、光電器件、工業生產制具的設計和加工與組裝，產品涉及光電通訊、半導體、醫藥機械等行業。
中山思考電子（品牌TANISS）2007年開始投資進入半導體行業，資金來源于深圳市華弘機電精密技術有限公司。經過不懈努力，掌握了鎳基劃片刀核心工藝。目前量產產品的品質穩定性、壽命均得到客戶認可，正在積極擴產中。
公司專注于產品的技術研發，希望通過我們的努力改善我國在半導體行業中落后的面貌。我們秉承:“守時誠信、質量上乘、客戶至上”的服務宗旨，以充滿自信的工作態度，精益求精的生産理念，從每個細節與客戶和諧發展。
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氮化鋁加熱器 氮化鋁陶瓷 氮化鋁陶瓷加熱片 發熱片 耐高溫絕緣陶瓷 高導熱氮化鋁
氮化鋁陶瓷加熱片 發熱片 耐高溫絕緣陶瓷 高導熱氮化鋁
半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤 氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷Ceramic Vacuum Table
半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤 氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷
訂制各種規格微孔陶瓷，氧化鋁陶瓷。
形狀圓形，方形，回形，L形等勻可訂做，厚度3MM到10MM不等。
氮化鋁陶瓷 半導體用氮化鋁陶瓷加熱器 ALN Ceramic Heating for semiconductor 靜電卡盤 ESC E-chuck
氮化鋁陶瓷加熱器（AlN Ceramic Heating for Semiconductor），使用高導熱AlN，通過電阻加熱元件的均勻燒結提供出色的溫度一致性，并顯著減少金屬污染和雜質。
具有優異的耐熱性，高機械強度，耐磨性和小介電損耗。 AlN襯底的表面非常光滑，孔隙率低。 與氧化鋁基材相比，氮化鋁具有較高的導熱性，其高約7至8倍。 ALN襯底是優異的電子封裝材料。ALN襯底應用廣泛，包括薄膜和厚膜微電子，大功率和高頻電路RF /微波部件和電容器或電阻器等。
12寸 半導體晶圓，芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤
12寸 半導體晶圓，芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤
氮化鋁加熱器 氮化鋁陶瓷 氮化鋁陶瓷加熱片 發熱片 耐高溫絕緣陶瓷 高導熱氮化鋁
氮化鋁陶瓷加熱片 發熱片 耐高溫絕緣陶瓷 高導熱氮化鋁
半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤 氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷Ceramic Vacuum Table
半導體 精密陶瓷 多孔陶瓷真空吸盤 氧化鋁陶瓷 碳化硅陶瓷
訂制各種規格微孔陶瓷，氧化鋁陶瓷。
形狀圓形，方形，回形，L形等勻可訂做，厚度3MM到10MM不等。
氮化鋁陶瓷 半導體用氮化鋁陶瓷加熱器 ALN Ceramic Heating for semiconductor 靜電卡盤 ESC E-chuck
氮化鋁陶瓷加熱器（AlN Ceramic Heating for Semiconductor），使用高導熱AlN，通過電阻加熱元件的均勻燒結提供出色的溫度一致性，并顯著減少金屬污染和雜質。
具有優異的耐熱性，高機械強度，耐磨性和小介電損耗。 AlN襯底的表面非常光滑，孔隙率低。 與氧化鋁基材相比，氮化鋁具有較高的導熱性，其高約7至8倍。 ALN襯底是優異的電子封裝材料。ALN襯底應用廣泛，包括薄膜和厚膜微電子，大功率和高頻電路RF /微波部件和電容器或電阻器等。
12寸 半導體晶圓，芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤
12寸 半導體晶圓，芯片刻蝕 PVD、CVD用氮化鋁陶瓷面 靜電卡盤
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